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　　今日凯时kb88官网登陆，拓荆科技披露机构调研纪要凯时kb88官网登陆，公司于7月1日至7月31日迎来了102家机构调研凯时kb88官网登陆，其中包括GIC凯时kb88官网登陆、UBS资管凯时kb88官网登陆、摩根士丹利等多家知名外资机构凯时kb88官网登陆凯时kb88官网登陆。

　　拓荆科技主营高端半导体专用设备，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列。值得注意的是凯时kb88官网登陆，该公司还是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD凯时kb88官网登陆凯时kb88官网登陆、SACVD设备厂商，其产品已广泛用于中芯国际、华虹集团凯时kb88官网登陆、长江存储等国内主流晶圆厂产线。

　　本次调研，拓荆科技表示，公司上半年紧跟下游晶圆厂的扩产节奏，积极推进订单签署凯时kb88官网登陆，目前公司在手订单饱满。

　　在产品技术上，拓荆科技提到，其三大产品目前自主研发形成的核心技术已达到国际先进水平凯时kb88官网登陆，公司产品的总体性能及关键性参数均已达到国际同类设备水平凯时kb88官网登陆。

　　其中，在PECVD产品上，拓荆科技表示基本可以实现28nm及以上制程的各种类薄膜工艺的覆盖凯时kb88官网登陆，包括通用介质薄膜、先进介质薄膜和硬掩膜等凯时kb88官网登陆凯时kb88官网登陆。

　　另外，该公司持续看好PECVD的市场发展潜力凯时kb88官网登陆凯时kb88官网登陆，认为PECVD是薄膜沉积设备中应用最为广泛的，预计未来几年PECVD设备市场仍然会呈现增长的趋势。

　　拓荆科技也在调研中披露了其它产品的进展情况凯时kb88官网登陆，公司PEALD设备可以覆盖逻辑芯片55-14nmSADP凯时kb88官网登陆、STI工艺及存储领域凯时kb88官网登陆，该产品已实现产业化应用；ThermalALD主要应用于28nm以下制程逻辑芯片凯时kb88官网登陆凯时kb88官网登陆，目前根据客户指标进行优化设计和验证测试凯时kb88官网登陆。

　　在先进产线的进展上，拓荆科技透露凯时kb88官网登陆凯时kb88官网登陆，其目前应用于14nm及以下先进制程产线的产品主要在验证中凯时kb88官网登陆，设备验证的进度需要视客户节奏情况而定凯时kb88官网登陆凯时kb88官网登陆。

　　对于下游客户持续扩产情况凯时kb88官网登陆，拓荆科技回应称，公司一直紧跟客户的扩产节奏，积极提升公司现有产品的市场占有率。但目前由于很多客户未通过公开招标的方式采购设备，因此公司产品在客户端的占比情况没有具体统计。

　　原标题：《半导体设备性能参数追平国际水平 这家细分龙头透露当前订单饱满》

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